ion assist

Italian translation: ausilio/supporto ionico/di ioni

GLOSSARY ENTRY (DERIVED FROM QUESTION BELOW)
English term or phrase:ion assist
Italian translation:ausilio/supporto ionico/di ioni
Entered by: Gaetano Silvestri Campagnano

08:26 Aug 2, 2019
English to Italian translations [PRO]
Tech/Engineering - Engineering (general)
English term or phrase: ion assist
Come tradurreste "ion assist"?


Qui compare 3 volte:

"The layers were formed by DC reactive sputtering, reactive DC and radio frequency (RF) sputtering, and ebeam evaporation onto silicon wafers. Some of the formed layers included SiO2, Nb2O5, or Al2O3 and were deposited onto silicon wafers by DC reactive sputtering from a silicon, niobium or aluminum target (respectively) at a temperature of about 50 °C using ion assist. Layers formed in this manner are designated with the indicator "RS". Other layers including SiO2 were deposited onto silicon wafers by e-beam evaporation by heating the wafer to 300 °C and without ion assist. Such layers are designated with the indicator "E". Layers of Ta2O5 were deposited onto silicon wafers by ebeam evaporation by heating the wafer to 300 °C and without ion assist."


Grazie!
MJV
Italy
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ausilio/supporto ionico/di ioni
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Gaetano Silvestri Campagnano
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4deposizione assistita agli ioni
Marco Belcastro Bara
4ausilio/supporto ionico/di ioni
Gaetano Silvestri Campagnano


  

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ausilio/supporto ionico/di ioni


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Gaetano Silvestri Campagnano
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2 days 2 hrs   confidence: Answerer confidence 4/5Answerer confidence 4/5
deposizione assistita agli ioni


Explanation:
ion assist

deposizione assistita agli ioni

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Note added at 2 days 2 hrs (2019-08-04 10:30:08 GMT)
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Strati di SiuAlvOxNy sono stati depositati sui wafer di silicio mediante/attraverso la spruzzatura/vaporizzazione catodica reattiva a corrente continua combinata con spruzzatura catodica a corrente continua sovrapposta a radiofrequenza, con deposizione assistita agli ioni mediante/impiegando/usando uno strumento di deposizione per bombardamento/spruzzo catodico fornito dalle AJA-Industries.


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Note added at 2 days 12 hrs (2019-08-04 20:56:12 GMT) Post-grading
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Non per polemica, ma se non fossi stato sicuro della risposta avrei messo livello di confidenza tre e non quattro: dalla mia ricerca la traduzione più corretta è quella che ho poi proposto. Tecnicamente si chiama deposizione assistita agli ioni.

deposizione assistita da fascio ionico
http://brevetti.enea.it/PDF_brevetti/638_tbi.pdf

Deposizione assistita da bombardamento ionico
https://www11.ceda.polimi.it/schedaincarico/schedaincarico/c...

... film sottili depositati sulla superficie del nostro substrato polimerico attraverso una speciale tecnica chiamata Ion Beam Assisted Deposition (IBAD), ovvero deposizione “ioni- assistita”; si tratta di un processo sotto vuoto che combina l’evaporazione del materiale di rivestimento, dovuta ad un potente fascio d’elettroni, con il bombardamento di ioni ad alta energia.
http://www.liceofederico.gov.it/sito/images/pdf/Progetto1Gla...

MACCHINA PER DEPOSIZIONE ASSISTITA DA UN FASCIO DI IONI / DI FILM SOTTILI
http://www.directindustry.it/prod/veeco/product-16363-178873...

MACCHINA PER DEPOSIZIONE ASSISTITA DA UN FASCIO DI IONI / DI FILM SOTTILI / SOTTOVUOTO / PER LENTI OFTALMICHE
http://www.directindustry.it/prod/buehler-leybold-optics/pro...

deposizione assistita da bombardamento ionico
https://www.zeiss.it/vision-care/ottici-optometristi/prodott...

Deposizione assistita da plasma di un film siliconico
https://first.aster.it/doc/presentazioni/ImpresaModenaRicerc...

deposizione metallica assistita da polimero (Polymer-Assisted Metal ...
https://notiziescientifiche.it/batteria-al-litio-straordinar...

polverizzazione mediante cannone ionico (IBSD, ion beam sputtering deposition); la deposizione mediante energizzazione delle particelle condensanti (IP, ion plating) in configurazione assistita sia da plasma sia da sorgente ionizzante (per es., un arco catodico); la deposizione assistita da bombardamento ionico (associata sia a evaporazione termica, che a polverizzazione catodica)
http://www.treccani.it/enciclopedia/film/

sistema di deposizione di film sottili sotto vuoto assistito da plasma (IPPA – Ion Plating Plasma Assisted). In questo caso, il campione da ricoprire (substrato) è inserito in una camera in cui viene poi ionizzato tramite RF formando così un plasma. I materiali da depositare vengono introdotti in camera da vuoto all’interno di appositi crogioli ed evaporati mediante riscaldamento per effetto Joule o attraverso un fascio elettronico (cannone elettronico).
Il plasma ottenuto in camera, interagendo con il materiale evaporato, consente a particelle e cluster di quest’ultimo di depositarsi sul substrato, andando a formare su questo un film sottile. I parametri di processo (tempo di deposizione, pressione dei gas in camera, potenza a RF applicata, eventuale riscaldamento del substrato)
http://www.enrstandards.org/it/proj_tecla.html

https://www.linguee.com/english-italian/translation/sputteri...


Marco Belcastro Bara
Italy
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