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maskwork

German translation: Herstellung lithographischer Masken

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GLOSSARY ENTRY (DERIVED FROM QUESTION BELOW)
English term or phrase:maskwork
German translation:Herstellung lithographischer Masken
Entered by: Daniela Penn
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14:01 Aug 12, 2004
English to German translations [PRO]
Tech/Engineering - Mechanics / Mech Engineering
English term or phrase: maskwork
or mask work
in ZUsammenhang mit Copyright, Patenten und Geschäftsgeheimnissen
Daniela Penn
Local time: 16:51
Herstellung lithographischer Masken
Explanation:
Es geht um die Herstellung sog. lithographischer Masken für die Halbleiterproduktion. Diese "Masken" kann man sich schützen lassen.
Selected response from:

abaensch
Germany
Local time: 16:51
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4 KudoZ points were awarded for this answer

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Summary of answers provided
4 +2Herstellung lithographischer Masken
abaensch
4Topographien
Klaus Herrmann
4DecktaetigkeitT. Czibulyás


  

Answers


26 mins   confidence: Answerer confidence 4/5Answerer confidence 4/5
Decktaetigkeit


Explanation:
In dieser Zusammenhang. Oder?

T. Czibulyás
Local time: 16:51
Works in field
Native speaker of: Native in HungarianHungarian
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30 mins   confidence: Answerer confidence 4/5Answerer confidence 4/5 peer agreement (net): +2
Herstellung lithographischer Masken


Explanation:
Es geht um die Herstellung sog. lithographischer Masken für die Halbleiterproduktion. Diese "Masken" kann man sich schützen lassen.


    Reference: http://www.golem.de/0205/19821.html
abaensch
Germany
Local time: 16:51
Specializes in field
Native speaker of: Native in GermanGerman
PRO pts in category: 16

Peer comments on this answer (and responses from the answerer)
agree  John Jory: Makes sense, in spite of scanty context
5 mins

agree  Sabine Griebler: This would be my guess, too.
1 hr
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37 mins   confidence: Answerer confidence 4/5Answerer confidence 4/5
Topographien


Explanation:
Zitat aus einem Aufsatz zum Halbleiterschutzgesetz:

Durch das Gesetz geschützt werden allein „Topographien"
Das Gesetz benutzt hier eine andere Terminologie als sein
amerikanisches Vorbild (mask work) oder das japanische
Gesetz (circuit layout). Dennoch beziehen sich alle drei Rege-
lungen auf den gleichen Schutzgegenstand.
[...]
In § l Abs. l Satz l werden Topographien definiert als „drei-
dimensionale Strukturen von mikroelektronischen Halbleiter-
erzeugnissen'

Siehe auch Diskussion bei Leo.



    Reference: http://www.uni-muenster.de/Jura.itm/hoeren/INHALTE/publikati...
    Reference: http://forum.leo.org/archiv/2003_08/30/20030830182519g_en.ht...
Klaus Herrmann
Germany
Local time: 16:51
Works in field
Native speaker of: Native in GermanGerman
PRO pts in category: 218
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