11:48 Dec 19, 2003 |
English to Spanish translations [PRO] Law/Patents | |||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|
|
| ||||||
| Selected response from: Valentín Hernández Lima Spain Local time: 13:05 | ||||||
Grading comment
|
Summary of answers provided | ||||
---|---|---|---|---|
5 +1 | topografías de circuitos integrados |
| ||
4 | mascarillas completas |
|
topografías de circuitos integrados Explanation: Es decir, el esquema de disposición física de elementos e interconexiones que se utilizan en la fabricación de un circuito integrado (GDT) y que constituyen una propiedad intelectual. Por ejemplo, este artículo de una ley: Legislación de Propiedad intelectual Artículo 69.—Violación de los derechos derivados de un esquema original de trazado (topografía) de circuitos integrados. www.geocities.com/propertynoticias/8039.html Y también: El Acuerdo TRIPS establece las normas mínimas que deben cumplir los miembros de la OMC para conceder derechos con miras a proteger la propiedad intelectual y velar por el cumplimiento de esos derechos. Incluye condiciones mínimas por separado que todos los países deben aplicar con respecto a los derechos de autor y otros derechos conexos, marcas registradas, indicaciones geográficas, diseños industriales, patentes, diseños de estructura (topografía) de circuitos integrados, y secretos industriales. V Reference: http://usinfo.state.gov/espanol/ipr/lehman.htm |
| |
Grading comment
| ||
Login to enter a peer comment (or grade) |
mascarillas completas Explanation: Copias tridimensionales, mascarillas completas, tridimensionales. What are Mask Works? Mask Works are defined as a series of related images, however fixed or encoded (1) having or representing the predetermined three-dimensional pattern of metallic, insulating, or semiconductor material present or removed from the layers of a semiconductor chip product; and (2) in which series the relation of the images to one another is that each image has the pattern of the surface of one form of the semiconductor chip product. http://www.patentstation.com/mdm/p141.htm |
| |
Login to enter a peer comment (or grade) |
Login or register (free and only takes a few minutes) to participate in this question.
You will also have access to many other tools and opportunities designed for those who have language-related jobs (or are passionate about them). Participation is free and the site has a strict confidentiality policy.